एक्स {{0}रे विवर्तन (एक्सआरडी) प्रयोगों में, शून्य - पृष्ठभूमि सब्सट्रेट का उपयोग करने से सब्सट्रेट से नमूना विवर्तन संकेत में हस्तक्षेप को काफी कम किया जा सकता है, जिसके परिणामस्वरूप उच्च गुणवत्ता वाले विवर्तन पैटर्न प्राप्त होते हैं।क्रिस्टल अभिविन्यास चयनशून्य-पृष्ठभूमि प्रदर्शन प्राप्त करने के मुख्य कारकों में से एक है।
मूल सिद्धांत
शून्य-पृष्ठभूमि सबस्ट्रेट्स के लिए क्रिस्टल ओरिएंटेशन चयन एक सरल सिद्धांत का पालन करता है:सिलिकॉन सब्सट्रेट के मुख्य विवर्तन शिखर को प्रयोगों की आमतौर पर उपयोग की जाने वाली 2θ स्कैनिंग रेंज के बाहर रखें, इस प्रकार नमूने से विवर्तन संकेत के साथ हस्तक्षेप से बचें।
पारंपरिक पाउडर एक्सआरडी प्रयोगों की स्कैनिंग रेंज अधिकतर केंद्रित है5 डिग्री - 90 डिग्री (2θ), इसलिए एक विशेष क्रिस्टल अभिविन्यास का चयन करना आवश्यक है ताकि सिलिकॉन की विशेषता विवर्तन शिखर इस सीमा के बाहर दिखाई दे।
आम तौर पर प्रयुक्त विशेष अभिविन्यास
1. <510>अभिविन्यास
- विवर्तन विशेषताएँ: सिलिकॉन का मुख्य विवर्तन शिखर अपेक्षाकृत उच्च 2θ कोण पर दिखाई देता है, जो पारंपरिक XRD प्रयोगों की आमतौर पर उपयोग की जाने वाली स्कैनिंग रेंज से अधिक है। इसलिए, लगभग कोई भी स्पष्ट सिलिकॉन सब्सट्रेट विवर्तन शिखर 5 डिग्री -90 डिग्री की सीमा में दिखाई नहीं देगा।
- लाभ: उत्कृष्ट शून्य{{0}पृष्ठभूमि प्रदर्शन, वर्तमान में वैज्ञानिक अनुसंधान में सबसे अधिक उपयोग किया जाने वाला शून्य{1}}पृष्ठभूमि सब्सट्रेट ओरिएंटेशन।
- प्रयोज्यता: अधिकांश पारंपरिक एक्सआरडी प्रयोगों के लिए अनुशंसित, विशेष रूप से पाउडर एक्सआरडी और कम -कोण एक्सआरडी परीक्षण के लिए।
2. <511>अभिविन्यास
- विवर्तन विशेषताएँ: के समान<510>, इसका विशिष्ट विवर्तन शिखर भी पारंपरिक प्रयोगात्मक सीमा के बाहर स्थित है और नमूना संकेत में महत्वपूर्ण हस्तक्षेप का कारण नहीं बनेगा।
- लाभ: उत्कृष्ट शून्य-पृष्ठभूमि प्रदर्शन भी प्रदान करता है।
- प्रयोज्यता: एक अन्य मुख्यधारा विकल्प, कुछ शोधकर्ता उपकरण विन्यास या प्रयोगात्मक आदतों के आधार पर इस अभिविन्यास को पसंद करते हैं।
पारंपरिक दिशाएँ उपयुक्त क्यों नहीं हैं?
बाजार में सबसे आम सिलिकॉन वेफर ओरिएंटेशन हैं<100>और<111>, लेकिन वे शून्य-पृष्ठभूमि सबस्ट्रेट्स के लिए उपयुक्त नहीं हैं:
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पारंपरिक अभिविन्यास |
मुख्य विवर्तन शिखर (2θ) |
संकट |
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<100> |
सी(400) शिखर ~69 डिग्री |
आमतौर पर उपयोग की जाने वाली परीक्षण सीमा के बिल्कुल भीतर गिरता है, जिससे एक मजबूत सब्सट्रेट शिखर उत्पन्न होता है जो नमूना सिग्नल के साथ गंभीर रूप से हस्तक्षेप करता है |
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<111> |
सी(111) शिखर ~28 डिग्री |
पारंपरिक परीक्षण रेंज के केंद्र में स्थित, हस्तक्षेप और भी अधिक स्पष्ट है |
इसलिए, हालांकि पारंपरिक अभिविन्यास आसानी से उपलब्ध हैं, वे शून्य - पृष्ठभूमि XRD प्रयोगों के लिए बिल्कुल अनुशंसित नहीं हैं।
अभिमुखीकरण चयन मार्गदर्शिका
- परीक्षण सीमा के आधार पर चयन करें: यदि आपका प्रयोग मुख्य रूप से निम्न {{0}कोण क्षेत्र (छोटा{1}}कोण XRD) पर केंद्रित है, तो दोनों<510>और<511>मांग को पूरा कर सकते हैं, और दोनों का पृष्ठभूमि प्रभाव अच्छा शून्य है।
- व्यक्तिगत आदत के आधार पर चयन करें: विभिन्न प्रयोगशालाओं में पारंपरिक उपयोग की आदतें हो सकती हैं। दोनों ही रुझान शिक्षा जगत में व्यापक रूप से स्वीकार किए जाते हैं, और आप अपने अनुभव के अनुसार चयन कर सकते हैं।
- छोटे बैच का अनुकूलन: पारंपरिक इन्वेंट्री से विशेष अभिविन्यास प्राप्त नहीं किया जा सकता है और इसके लिए अनुकूलित कटिंग की आवश्यकता होती है। हम दोनों के छोटे-बैच अनुकूलन का समर्थन करते हैं<510>और<511>5 टुकड़ों के न्यूनतम ऑर्डर के साथ अभिविन्यास।
सार तालिका
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अभिविन्यास |
शून्य-पृष्ठभूमि प्रदर्शन |
उपलब्धता |
सिफारिश |
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<510> |
⭐⭐⭐⭐⭐ |
अनुकूलन |
🌟🌟🌟🌟🌟 |
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<511> |
⭐⭐⭐⭐⭐ |
अनुकूलन |
🌟🌟🌟🌟 |
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<100> |
❌ |
स्टॉक में |
❌ |
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<111> |
❌ |
स्टॉक में |
❌ |
हमारे बारे में
Ningbo Sibranch माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स टेक्नोलॉजी कं, लिमिटेड अनुकूलित और प्रदान कर सकता है<510>या<511>अनुसंधान आवश्यकताओं के अनुसार ओरिएंटेशन XRD शून्य - पृष्ठभूमि सब्सट्रेट सिलिकॉन वेफर्स। हम विशेष आकार, मोटाई और सतह के उपचार की आवश्यकताओं का समर्थन करते हैं, और छोटे बैच के ऑर्डर स्वीकार करते हैं।
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