उत्पाद वर्णन
सिलिकॉन ऑक्साइड वेफर एक उन्नत और आवश्यक सामग्री है जिसका उपयोग विभिन्न उच्च तकनीक उद्योगों और अनुप्रयोगों में किया जाता है। यह उच्च गुणवत्ता वाले सिलिकॉन सामग्रियों को संसाधित करके उत्पादित एक उच्च शुद्धता वाला क्रिस्टलीय पदार्थ है, जो इसे कई अलग-अलग प्रकार के इलेक्ट्रॉनिक और फोटोनिक अनुप्रयोगों के लिए एक आदर्श सब्सट्रेट बनाता है।
सिलिकॉन ऑक्साइड वेफ़र्स का इस्तेमाल सेमीकंडक्टर उद्योग में बड़े पैमाने पर किया जाता है, जहाँ वे माइक्रोचिप्स और अन्य इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के निर्माण के लिए एक प्लेटफ़ॉर्म के रूप में काम करते हैं। अपने बेहतरीन इलेक्ट्रिकल और थर्मल गुणों के साथ, सिलिकॉन ऑक्साइड वेफ़र्स एकीकृत सर्किट, मेमोरी चिप्स और कई अन्य इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के उत्पादन के लिए ज़रूरी हैं।
इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के अलावा, सिलिकॉन ऑक्साइड वेफ़र्स का उपयोग फोटोवोल्टिक या सौर सेल अनुप्रयोगों में भी व्यापक रूप से किया जाता है। यह सौर कोशिकाओं के निर्माण के लिए एक आधार के रूप में कार्य करता है, जहाँ यह एक परत के रूप में कार्य करता है जो सतह परावर्तन को कम करके और प्रकाश अवशोषण को बढ़ाकर सेल दक्षता में सुधार करने में मदद करता है।
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ऑक्सीकरण तकनीक |
गीला ऑक्सीकरण या शुष्क ऑक्सीकरण |
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व्यास (इंच में) |
2″ / 3″ / 4″ / 6″ / 8″ / 12″ |
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ऑक्साइड की मोटाई |
10एनएम~15µm |
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सहनशीलता |
+/- 5% |
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सतह |
एकल पक्षीय ऑक्सीकरण (एसएसओ) / दोहरा पक्षीय ऑक्सीकरण (डीएसओ) |
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भट्ठी |
क्षैतिज ट्यूब भट्ठी |
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गैस |
हाइड्रोजन और ऑक्सीजन गैस |
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तापमान |
900 डिग्री ~ 1200 डिग्री |
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अपवर्तक सूचकांक |
1.456 |
उत्पाद की तस्वीर


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